日本化学工業は、世界で2社しかない高純度液化ホスフィンの製造メーカーです。
当社が30年以上にわたり培ったホスフィンテクノロジーにより、さまざまなアルキルホスフィン化合物を製造しております。
ラジカル触媒反応、酸触媒反応、塩基触媒反応を適切に使い分けることで、官能基を含む種々の1級、2級、3級アルキルホスフィンをご提供することができます。

これらの化合物は、MOCVDによる化合物半導体製造の材料用途、ルテニウム錯体によるアルコールの脱水素反応（γ-ブチロラクトン合成）用触媒、燃料電池用電解質膜の重合用触媒といったさまざまな触媒用途、希土類抽出溶媒や量子ドット合成用溶媒、さらに皮なめし剤におよぶ幅広い分野においてご使用いただけます。

アルキルホスフィンの酸化により得られるホスフィンオキサイドは、金属の抽出溶媒、反応型難燃剤および触媒等の分野において幅広く使用されています。そのなかでも、トリオクチルホスフィンはウランの抽出溶媒として使用され、また最近では量子ドットのキャッピング剤として注目されています。
当社が有する豊富なアルキルホスフィンの製造技術により、さまざまな構造のホスフィンオキシドを高品質で提供することが可能となっております。

当社は様々なホスホニウム塩を提供することが可能です。抗菌剤、帯電防止剤は代表的な用途であり、既存の高分子材料にホスホニウム塩を添加することによりこれらの性能を付与することができます。また、相間移動触媒やエポキシ硬化促進剤といった触媒用途でのご使用も可能であり、お客様の反応事例に適切な物性を持つ構造をご提供、新規開発をすることができます。